Un equipo de científicos de la Universidad de California y la Universidad de Kassel en Alemania ha desarrollado una técnica que permite detener el proceso de fusión ultrarrápida del silicio utilizando pulsos láser perfectamente sincronizados. El silicio es fundamental en la electrónica moderna y su estructura atómica puede colapsar en fracciones de un billonésimo de segundo cuando se somete a un láser de alta energía. La técnica consiste en dividir el haz láser en dos pulsos separados por exactamente 126 femtosegundos, lo que permite 'congelar' los átomos en una nueva fase sólida conocida como estado metastable. En este estado, el material mantiene la mayoría de sus propiedades electrónicas originales y el gap de banda se reduce ligeramente. La técnica podría convertirse en una herramienta clave para estudiar interacciones luz-materia, mejorar los métodos para medir constantes de acoplamiento y desarrollar materiales con propiedades personalizadas. El estudio sugiere que este mecanismo no se limita al silicio y podría beneficiar campos como la fabricación de semiconductores y el desarrollo de materiales superconductores a temperatura ambiente.