
Un equipo de investigadores chinos de la Universidad de Pekín ha desarrollado un transistor sin silicio utilizando oxiselenuro de bismuto y selenato de bismuto, que opera un 40% más rápido y consume un 10% menos de energía que los chips de 3nm de Intel, TSMC y Samsung. La tecnología utiliza una arquitectura de transistor de efecto de campo de compuerta envolvente y permite la integración monolítica tridimensional a baja temperatura. Esto podría reducir la dependencia de China en tecnologías extranjeras y fortalecer su autonomía en el sector tecnológico.