China ha desarrollado su primer escáner litográfico de haz de electrones, alcanzando una precisión de 0,6 nm, comparable a la litografía EUV más avanzada. Además, la empresa Empyrean Technology ha logrado que su plataforma de diseño y verificación de chips comience a producirse en masa, reduciendo la dependencia de proveedores extranjeros. El objetivo es crear una cadena completa de herramientas EDA que cubra desde circuitos analógicos y de memoria hasta radiofrecuencia y visualización. La inversión en I+D es considerable, con un crecimiento del 13% en los ingresos de Empyrean en la primera mitad de 2025, pero con un beneficio neto que se ha reducido más del 90%. El presidente Xi Jinping busca impulsar la independencia tecnológica de China en el sector de los chips, lo que supone un cambio de rumbo en la industria. La empresa ASML, líder en litografía EUV, tiene una precisión similar, pero con una mayor productividad. China busca reducir la brecha con Occidente en el sector de los chips, con un enfoque en la investigación y el desarrollo de tecnologías propias.